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一、真空爐熱處理爐用途
       真空爐熱處理適用于稀土制備、電子照明、晶體退火、生物陶瓷、電子陶瓷、特種合金、磁性材料、精密鑄造、金屬熱處理等行業進行真空燒結、氣氛保護燒結、真空鍍膜、CVD實驗、物質成分測量等。

二、真空爐熱處理爐特點
       1、加熱元件360度均布，爐溫均勻性高，冷室監控標配。
       2、該設備分熱室和冷室，生產效率高，使用成本低。
       3、淬火油槽安裝攪拌器（可調速），工件變形小，冷卻均勻性高，操作簡捷，編程工藝可多步輸入，機械動作穩定，手動/自動控制，故障自動報警/顯示。

三、真空爐熱處理爐參數

型號	加熱有效區 （mm）	裝爐量 （Kg）	加熱元件 （Ω）	加熱功率 （Kw）	高溫度 （℃）	均溫性 （±℃）	限真空度（Pa）	壓升率 （Pa/h）	氣冷壓強 （bar）
TDRG2-644	600×400×400	200	石墨/鉬	70	1320	5	4.0E-1/6.7E-3	≤0.60	≤2
TDRG2-755	750×500×500	300	石墨/鉬	80
TDRG2-966	900×600×600	500	石墨/鉬	120
TDRG2-1288	1200×800×800	800	石墨/鉬	240